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單晶爐需要控制的方面

更新時間:2011-07-04      點擊次數(shù):2311
       單晶爐需要控制的方面

       單晶爐是一種在惰性氣體環(huán)境中,用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生長無錯位單晶的設備。

          一、晶體直徑   

          二、溫度   

          三、原料   

          四、泄漏率,氬氣質(zhì)量等   

        

深圳市利方達科技有限公司

在香港、深圳、上海開設了子公司;公司專注國外的真空、鍍膜設備核心部件、儀器、零部件的代理銷售、服務、以及各種真空非標準系統(tǒng)的生產(chǎn)開發(fā),同時向國外宣傳和銷售國內(nèi)的產(chǎn)品;主要產(chǎn)品:真空測量儀氣體流量計,真空鍍膜機,三洋伺服電機等。公司擁有雄厚的技術力量和的員工團隊,*的服務,為客戶提供*的真空配備方案,解決客戶真空應用難題,使客戶成本降到zui低;為此我們得到了業(yè)界的稱譽,擁有了大量的客戶群體。我們將更一如繼往努力的維護客戶,回報客戶對我們的信任。期待你的來電??!

    
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