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矩形傳輸閥的產(chǎn)品介紹
矩形傳輸閥的產(chǎn)品介紹

矩形傳輸閥的產(chǎn)品介紹日揚(yáng)科技真空矩形閥由日揚(yáng)自主設(shè)計(jì)和生產(chǎn)制造,作為一款真空系統(tǒng)密封零部件,它擁有zhuoyue的操作性能、高耐用性、低振動(dòng)和高潔凈度等優(yōu)點(diǎn)。規(guī)格參數(shù):閥門采用氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)模式,開啟/關(guān)閉的最快時(shí)間不超過1s,閥體開口尺寸可按客戶需求定制。當(dāng)閥門開啟時(shí),壓力差值小于10mbar,閥門內(nèi)部軸密封采用波紋管,閥體材料可以選擇不銹鋼或者鋁合金材質(zhì),表面可以做電解拋光或者硬質(zhì)陽極氧化處理。應(yīng)用...

2024-06-11
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  • 真空規(guī)管使用知識小結(jié)

    真空規(guī)管就是測量真空度的傳感器。真空規(guī)管測量出來的信號傳輸?shù)秸婵沼?jì)上經(jīng)過放大處理就可以顯示出被測真空環(huán)境的真空度。主要應(yīng)用于真空環(huán)境的真空度測量領(lǐng)域,如真空鍍膜,太陽能集熱管制作,真空冶煉等。真空規(guī)管一般是裝在真空鍍膜室的位置,是指電離規(guī)管,玻璃管端部用老虎鉗夾破一點(diǎn),插進(jìn)真空室密封好,必須大氣狀態(tài)完成。(還有電阻規(guī)它是測粗真空的,這種沒有規(guī)管,就一個(gè)傳感器)用來監(jiān)測真空度的,,電離規(guī)開啟一般是有要求的,當(dāng)壓強(qiáng)到3PA以下才開真空,可設(shè)置壓強(qiáng)參數(shù),到了會(huì)自動(dòng)開,過早開會(huì)氧化電...

    20138-30
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  • 真空濺射的應(yīng)用范圍

    工業(yè)部門應(yīng)用實(shí)例備注電子工業(yè)半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)材料、導(dǎo)電材料、超導(dǎo)材料、太陽能電池、集成線路及電路元件等低基片溫度機(jī)械工業(yè)耐蝕、耐熱、耐摩擦性能保護(hù)性材料等厚膜光學(xué)工業(yè)反射膜、選擇性透光膜、光集積回路、反射鏡保護(hù)膜低基片溫度裝飾塑料涂層、陶瓷涂層、彩虹包裝等厚膜航天及交通導(dǎo)電玻璃擋風(fēng)玻璃電子工業(yè):半導(dǎo)體材料、電介質(zhì)材料、導(dǎo)電材料、超導(dǎo)材料、太陽能電池、集成線路及電路元件等。低基片溫度機(jī)械工業(yè):耐蝕、耐熱、耐摩擦性能保護(hù)性材料等。厚膜光學(xué)工業(yè):反射膜、選擇性透光膜、光集積回路、...

    20138-21
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  • 濺射薄膜的特點(diǎn)

    膜厚可控性和重復(fù)性好控制靶電流可以控制膜厚通過濺射時(shí)間控制膜厚薄膜與基片的附著力強(qiáng)高能量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象,形成一層偽擴(kuò)散層基片在成膜過程中始終在等離子區(qū)中被清洗和激活,清除了附著力不強(qiáng)的濺射原子,凈化且激活基片表面。可以制備特殊材料的薄膜可濺射幾乎所有的固體(包括粒狀、粉狀的物質(zhì)),不受熔點(diǎn)的限制。使用不同材料同時(shí)濺射制備混合膜、化合膜??芍苽溲趸锝^緣膜和組分均勻的合金膜??赏ㄈ敕磻?yīng)氣體,采用反應(yīng)濺射方法制備與靶材*不同的新的物質(zhì)膜。如用硅靶制作二氧化硅絕緣...

    20138-21
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  • 晶振片的使用方法

    現(xiàn)在市面上有多種晶振片,有進(jìn)口的有國產(chǎn)的,有鍍金的、鍍銀的、還有銀鋁合金的,如果選擇確實(shí)是我們廣大用戶想知道的,以下就是我們選擇的一個(gè)參考。晶體的質(zhì)量和壽命不僅影響速率和厚度測量的準(zhǔn)確性,更重要的是還決定著受控制的過程能否成功完成。INFICON石英晶體具有經(jīng)過實(shí)踐驗(yàn)證的品質(zhì)和可靠性,其在各種材料、應(yīng)用和行業(yè)中的無數(shù)次成功的過程運(yùn)行充分證明了這一點(diǎn)。我們的6MHz晶體可與所有INFICON控制器和監(jiān)控器結(jié)合使用。而5MHz晶體只能與5MHz儀器結(jié)合使用;與有些INFICON儀...

    20138-21
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  • 石英晶體膜厚控制儀知識小結(jié)

    石英晶體膜厚控制儀的特點(diǎn):1、標(biāo)準(zhǔn)RS-232和USB(有以太網(wǎng)選件)。2、貯存容量高至100個(gè)工藝過程,1,000個(gè)膜層,50個(gè)膜系。3、用單傳感器或多傳感器監(jiān)測源材料,提供的源分布監(jiān)測。4、高亮度,VGA活性點(diǎn)陣彩色LCD顯示器–可顯示英文或中文。5、易設(shè)置和操作,有“快速設(shè)置”菜單,6個(gè)上下文-敏感的按鈕,和方便的參數(shù)設(shè)定旋鈕。6、Window程序用于開發(fā),測試,和下載工藝過程,和將儀器數(shù)據(jù)記錄至您的PC上,用于過程分析與質(zhì)量控制。7、的過程控制,尤其用于低淀積率,在1...

    20137-29
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  • 壓電閥的發(fā)展歷程

    閥作為液氣壓系統(tǒng)中的重要元件,實(shí)現(xiàn)對流體壓力、流量和流向的控制,直接影響著液氣壓系統(tǒng)的工作過程和工作性能。隨著液氣壓技術(shù)從傳統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域向空間、信息和生物醫(yī)學(xué)等新技術(shù)領(lǐng)域的不斷拓展,對液氣壓系統(tǒng)的尺寸、控制精度、響應(yīng)速度和可靠性等各個(gè)方面都提出了更高的要求。傳統(tǒng)的控制閥較難滿足這樣的要求,因此對于閥的革新成為了國內(nèi)外科研機(jī)構(gòu)和企業(yè)的研究開發(fā)熱點(diǎn)。壓電閥zui早出現(xiàn)在20世紀(jì)90年代SIEMENS公司推出的SPIARTPS智能閥門定位器中。它利用壓電晶體的逆壓電效應(yīng),在實(shí)際應(yīng)用當(dāng)...

    20137-24
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  • 質(zhì)量流量計(jì)的優(yōu)缺點(diǎn)

    質(zhì)量流量計(jì)是一種直接而精密地測量流體質(zhì)量流量的新穎儀表,以結(jié)構(gòu)主體采用兩根并排的U形管,讓兩根管的回彎部分相向微微振動(dòng)起來,則兩側(cè)的直管會(huì)跟著振動(dòng),即它們會(huì)同時(shí)靠攏或同時(shí)張開,即兩根管的振動(dòng)是同步的,對稱的,如果在管子同步振動(dòng)的同時(shí),將流體導(dǎo)入管內(nèi),使之沿管內(nèi)向前流動(dòng),則管子將強(qiáng)迫流體與之一起上下振動(dòng)。這樣就直接測量了質(zhì)量流量質(zhì)量流量計(jì)優(yōu)點(diǎn):高性價(jià)比。響應(yīng)速度快—小于2秒。的可靠性—使用一年以上,零點(diǎn)漂移小于滿量程的0.5%。易于集成—標(biāo)準(zhǔn)接頭和尺寸。出眾的效果—高品質(zhì)膜層與...

    20137-10
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  • 氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用和原理

    氦質(zhì)譜檢漏儀,是用氦氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器。它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點(diǎn)。是真空檢漏技術(shù)中靈敏度zui高,使用zui普遍的檢漏儀器。氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用:元件檢漏的要求,靈活性測試,高靈敏度,快速于的結(jié)果,快速啟動(dòng),移動(dòng)性和系統(tǒng)的可靠性。半導(dǎo)體工藝設(shè)備的維護(hù),該設(shè)備本身帶或未帶有真空泵工藝氣體系統(tǒng)的檢測與安裝元器件在組裝前的漏率測試要求高抽速、高靈敏度以及清潔測試條件的應(yīng)用場合氦質(zhì)譜檢漏儀的原理:氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學(xué)原理,用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。由...

    20136-27
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  • 特點(diǎn)解析之隔膜真空泵

    隔膜真空泵設(shè)計(jì)先進(jìn),工作效率高,使用壽命長,是集高新技術(shù)于一體的換代產(chǎn)品。隔膜真空泵為蒸發(fā)、蒸餾、結(jié)晶、干燥、升華、過濾減壓、脫氣提供真空條件,以及溶媒回收、各種劇毒,易燃易爆、強(qiáng)酸、強(qiáng)堿抽取。除適用于循環(huán)水式真空泵和旋片式真空泵的適用場合外,還用于醫(yī)療醫(yī)藥產(chǎn)品分析、精細(xì)化工、生化制藥、食品檢驗(yàn)、*刑偵技術(shù)等領(lǐng)域,是為其精密色譜儀器配套的產(chǎn)品,也是實(shí)驗(yàn)室*的裝備之一。隔膜真空泵的極限壓強(qiáng)泵的極限壓強(qiáng)單位是Pa,是指泵在入口處裝有標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)罩并按規(guī)定條件工作,在不引入氣體正常工作...

    20136-13
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  • 真空鍍膜機(jī)原理

    真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并...

    20136-13
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  • 真空開關(guān)測試儀的技術(shù)資料

    真空開關(guān)測試儀又稱高壓開關(guān)機(jī)械特性測試儀,高壓開關(guān)測試儀,高壓開關(guān)特性測試儀,跟著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,人們對用電的安全可靠性要求越來越高,高壓斷路器在電力系統(tǒng)中擔(dān)負(fù)著控制和保護(hù)的雙重任務(wù),其機(jī)能的優(yōu)劣直接關(guān)系到電力系統(tǒng)的安全運(yùn)行。機(jī)械特性參數(shù)是判定斷路器機(jī)能的重要參數(shù)之一。真空開關(guān)測試儀是我公司依據(jù)的《高壓交流斷路器》GB1984-2003為設(shè)計(jì)底本,參照中華人民共和國電力行業(yè)尺度《高電壓測試設(shè)備通用技術(shù)前提》第3部門,DL/T846.3-2004高壓開關(guān)綜合測試儀為設(shè)計(jì)依據(jù),為...

    20135-29
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  • 真空鍍膜機(jī)操作程序

    真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。1、檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。2、打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。3、低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。5、落下鐘罩。6、啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。7、開復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號:Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋...

    20135-2
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